¼¾Ãò¶ó Å×Æ®¶ó Z Æ÷Å丶½ºÅ© ½Ä°¢ Àåºñ(Centura¢ç Tetra¢â Z Photomask Etch System /»çÁøÁ¦°ø=¾îÇöóÀ̵å¸ÓƼ¾î¸®¾óÁî |
ÀÌ Àåºñ´Â ·ÎÁ÷°ú ¸Þ¸ð¸® µð¹ÙÀ̽º¸¦ À§ÇØ ÆÐÅÍ´× »ç¾çÀ» ÃæÁ·½ÃÅ°´Âµ¥ ÇÊ¿äÇÑ Æ÷Å丶½ºÅ© ÀÓ°èÄ¡¼ö(CD: critical dimension) º¯¼ö¿¡ ¿Ë½ºÆ®·Ò ·¹º§(angstrom-level)ÀÇ Á¤È®¼ºÀ» Á¦°øÇÑ´Ù. Å×Æ®¶ó Àåºñ´Â Áö³ 10¿©³â°£ Àü¼¼°è ´ëºÎºÐÀÇ ¸¶½ºÅ© Á¦Á¶¾÷üµéÀÇ Æ÷Å丶½ºÅ© ½Ä°¢¿¡ »ç¿ëµÅ ¿Ô´Ù.
¶ó¿À ¾ß¶ó¸¸Ä¡¸® ¾îÇöóÀ̵å¸ÓƼ¾î¸®¾óÁî ¸¶½ºÅ© ½Ä°¢ Àåºñ ÃÑ°ýÃ¥ÀÓÀÚ´Â ¡°193³ª³ë ÆÄÀåÀ» »ç¿ëÇØ 10³ª³ë ¶Ç´Â 7³ª³ë ÆÐÅÏÀ» »ý»êÇϱâ À§Çؼ´Â Æ÷Å丶½ºÅ©¿¡ ÀÇÁ¸µµ°¡ ³ôÀº À̸ÓÀü°ú ¸ÖƼÇà ÆÐÅÍ´×À» Æ÷ÇÔÇÏ´Â ÃÖÀûÀÇ ±â¼úÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù"¸ç "Å×Æ®¶ó Z´Â Áøº¸µÈ ³ëµå ¼³°èÀÇ ÆÐÅÍ´×À» À§ÇÑ Â÷¼¼´ë ±¤ÇÐ Æ÷Å丶½ºÅ©¸¦ ½Ä°¢Çϱâ À§ÇØ ¿ä±¸µÇ´Â Á¤È®¼ºÀ» Á¦°øÇÏ´Â À¯ÀÏÇÑ Àåºñ"¶ó°í ¸»Çß´Ù.
¾îÇöóÀ̵å¸ÓƼ¾î¸®¾óÁî´Â ¹ÝµµÃ¼ ºÐ¾ßÀÇ Á¤¹ÐÀç·á°øÇÐ ¼Ö·ç¼Ç ¹× ÆòÆÇ µð½ºÇ÷¹ÀÌ, ž籤 »ê¾÷ ºÐ¾ß ¼¼°èÀû ±â¾÷ÀÌ´Ù.