¼Óº¸
VIP
ÅëÇÕ°Ë»ö

[´õº§]½Ã³ëÆ彺, MBÇÊÅÍ Á¦Á¶ ƯÇã ȹµæ '¿µ¿ªÈ®Àå'

´õº§
  • Á¶¿µ°© ±âÀÚ
  • Ä«Ä«¿ÀÅå °øÀ¯Çϱâ
  • Ä«Ä«¿ÀÅå ³ª¿¡°Ô Àü¼ÛÇϱâ
  • ÆäÀ̽ººÏ
  • Æ®À§ÅÍ
  • ³×À̹ö
  • ÅÚ·¹±×·¥
  • ¹®ÀÚ
  • 2020.09.04 10:49
  • ±ÛÀÚÅ©±âÁ¶Àý

´ÙÃþ±¸Á¶Çü¼º Á¦Á¶¹æ½Ä, ¹ÝµµÃ¼¡¤È¯°æ»ç¾÷ ¼ÒÀç ±¹»êÈ­ ¹ÚÂ÷

½Ã³ëÆ彺 Â÷Æ®
´õº§|ÀÌ ±â»ç´Â 09¿ù04ÀÏ(10:42) ÀÚº»½ÃÀå ¹Ìµð¾î '¸Ó´ÏÅõµ¥ÀÌ thebell'¿¡ Ãâ°íµÈ ±â»çÀÔ´Ï´Ù.


½Ã³ëÆ彺 (8,830¿ø ¡ã280 +3.27%)°¡ MBÇÊÅÍ Á¦Á¶¿Í °ü·ÃµÈ ¹æ¹ý ¹× ÀåÄ¡¿¡ ´ëÇÑ Æ¯Çã±ÇÀ» ȹµæÇß´Ù. Ãʹ̼¼ MBÇÊÅÍ ±â¼úÀ» ¹ÙÅÁÀ¸·Î ¼öÁú(Liquid), °ø±â(Air) ¿©°ú»ç¾÷À» ºñ·ÔÇØ ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ºÎ¹®ÀÇ »ç¾÷¿ª·®À» °­È­ÇÑ´Ù´Â °èȹÀÌ´Ù.


½Ã³ëÆ彺´Â 4ÀÏ '°üÇüÇÊÅ͸¦ ¸áÆ®ºí·Î¿î(MB, Melt-Blown)¹æ½ÄÀ¸·Î Á¦Á¶ÇÏ´Â ¹æ¹ý ¹× ÀåÄ¡-´ÙÃþ±¸Á¶Çü¼ºÀ» À§ÇÑ Á¦Á¶¹æ½Ä'°ú °ü·ÃÇØ Æ¯ÇãûÀ¸·ÎºÎÅÍ Æ¯Çã±ÇÀ» ȹµæÇß´Ù°í ¹àÇû´Ù. ÇöÀç ƯÇãµî·Ï ÀýÂ÷¸¦ ¹â°í ÀÖ´Ù.

½Ã³ëÆ彺´Â 2016³â ±¹³» ÃÖÃÊÀÌÀÚ ¼¼°è µÎ ¹ø°·Î Àý´ë(Absolute)¿©°ú µî±ÞÀÇ ½ÉÃþ¿©°ú ÇÊÅÍ(Melt-Blown Depth Absolute Filter) °³¹ß¿¡ ¼º°øÇÑ ÀÌÈÄ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î ÇÊÅÍ ±â¼úÀ» ¾÷±×·¹À̵å ÇØ¿Ô´Ù. ƯÈ÷ 2017³â 10¿ù ¼¼°è ÃÖ°í ¼öÁØÀÇ ±â°ø»çÀÌÁîÀÎ 0.2§­ ¼öÁØÀÇ ÇÊÅÍ Á¦Á¶¹æ¹ý, ÀåÄ¡¸¦ °³¹ßÇÏ°í ƯÇãµî·ÏÀ» ÁøÇàÇϱ⵵ Çß´Ù.

½Ã³ëÆ彺 °ü°èÀÚ´Â "±×µ¿¾È ÀϺ», Áß±¹ µî ¼¼°è °¢±¹¿¡¼­ ÇÊÅÍ °³¹ß¿¡ µµÀüÇßÁö¸¸ ±â°øÀÇ »çÀÌÁî, À¯·® ¹× ÇÊÅÍ ¼ö¸í µî Àü¹ÝÀûÀÎ ¼º´ÉÀÌ ±â´ë¿¡ ¹ÌÄ¡Áö ¸øÇÑ °Ô »ç½Ç"À̶ó¸ç "½Ã³ëÆ彺´Â 30³â ÀÌ»ó MBÇÊÅ͸¦ Á¦Á¶, ¹ÝµµÃ¼ CMP(Chemical Mechanical Polishing) °øÁ¤°ú ½½·¯¸® Á¦Á¶»ç¿¡ °ø±ÞÇÑ ³ëÇϿ츦 ¹ÙÅÁÀ¸·Î Ãʹ̼¼ ÇÊÅÍ Á¦Á¶ ±â¼úÀ» Çâ»ó½ÃÄÑ ¿Ô´Ù"°í ¸»Çß´Ù.

½Ã³ëÆ彺´Â 4¿ù »ê¾÷Åë»óÀÚ¿øºÎ »êÇÏ Çѱ¹»ê¾÷±â¼úÆò°¡°ü¸®¿øÀ¸·ÎºÎÅÍ '¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ °íÈ¿À²È­ CMP ½½·¯¸® Á¤Á¦¿ë ÇÊÅÍ ¼ÒÀç ¹× °í±â´É¼º Á¦Ç°È­ ±â¼ú °³¹ß' ÇÁ·ÎÁ§Æ® ¼öÇà ±â¾÷À¸·Î ¼±Á¤µÇ±âµµ Çß´Ù. ½Ã³ëÆ彺´Â 2024³â±îÁö CMP ½½·¯¸® Á¤Á¦¿ë ÇÊÅÍ ¼ÒÀç ¹× Á¦Ç°¿¡ ´ëÇØ 'Æ÷Áý È¿À², ±â°ø À¯Áö ¹× ¼ö¸í Çâ»ó' µîÀ» ¸ñÇ¥·Î ÇÁ·ÎÁ§Æ®¸¦ ¼öÇàÇÑ´Ù.


´õºÒ¾î Áö³­ 3¿ù °í¼º´É ÇìÆÄÇÊÅÍ ±¹»êÈ­¿¡ ¼º°øÇÑ µ¥ ÀÌ¾î ³ª³ë±Þ Ãʱؼ¼»ç MBÇÊÅÍ »ý»êÀ» À§ÇÑ ½Å±Ô ¼³ºñ¶óÀÎ Áõ¼³ÀÌ ¸¶¹«¸® ´Ü°è¿¡ ÀÖ¾î ÀÌ´Þ ÁßÀ¸·Î ´ë·®°ø±Þ üÁ¦¸¦ ±¸ÃàÇÑ´Ù´Â ¹æħÀÌ´Ù. ƯÈ÷ ÇìÆÄÇÊÅÍ´Â ÀϺ» µîÀ¸·ÎºÎÅÍ Àü·® ¼öÀÔ¿¡ ÀÇÁ¸ÇÏ´ø Ç°¸ñÀ̶ó´Â Á¡¿¡¼­ ½Ã³ëÆѽº°¡ ±¹»êÈ­ ½ÃÀåÀ» ¼±Á¡ÇÒ °ÍÀ¸·Î ¾÷°è¿¡¼± ³»´ÙºÃ´Ù.

¼®À¯¹Î ½Ã³ëÆ彺 ¸âºê·¹ÀÎÇÊÅÍ»ç¾÷ºÎ R&D ¼¾ÅÍÀåÀº "CMP MBÇÊÅÍ µîÀ» Æ÷ÇÔÇØ °ø±â ¹× ¼öÁú¿ë ¸âºê·¹ÀÎÇÊÅÍ¿¡ À̸£±â±îÁö ±â¼ú °æÀï·ÂÀ» Áö¼ÓÀûÀ¸·Î Çâ»ó½ÃÅ°°í ÀÖÀ¸¸ç, ±× ¼º°ú¹°ÀÌ °è¼Ó ³ª¿À°í ÀÖ´Ù"¸é¼­ "ÃÖ±Ù ÀμöÇÑ ÇÁ·ÐÅØ¿¡ ½Ã³ëÆ彺ÀÇ ±â¼ú·ÂÀ» °áÇÕÇØ °í¼º´É ºÒ¼Ò¼öÁö°è ¸âºê·¹ÀÎÇÊÅÍ¿Í ¼ö¼Ò¿¬·áÀüÁö ÁöÁöü µîÀÇ ºÐ¾ß¿¡¼­µµ ¼ÒÀç ±¹»êÈ­ ¹× ±â¼ú Çâ»óÀ» À§ÇØ ³ë·ÂÇÒ °Í"À̶ó°í ¹àÇû´Ù.



¸Ó´ÏÅõµ¥ÀÌ ÁÖ¿ä´º½º

"¿ì¸®µµ ¹°·È¾î, Áö±Ý ÆȾƺÃÀÚ¡¦" ½ÇÀÍ ¾ø´Â ¿ÜÀÎ, ¾È ¶°³­´Ù?
³×À̹ö ¸ÞÀο¡¼­ ¸Ó´ÏÅõµ¥ÀÌ ±¸µ¶ Ä«Ä«¿ÀÅå¿¡¼­ ¸Ó´ÏÅõµ¥ÀÌ Ã¤³Î Ãß°¡

º£½ºÆ®Å¬¸¯

¿À´ÃÀÇ ²ÜÆÁ

  • ´º½º ¼Ó ¿À´Ã
  • ´õ¿µ»ó
  • ³¯¾¾´Â?
  • ÇコÅõµ¥ÀÌ

¸¹ÀÌ º» ´º½º

ºÎµ¿»ê À¯Æ©ºê Á¤º¸Ã¤³Î ºÎ¸´Áö
2023 ´ëÇѹα¹ »çȸ¾ÈÀüÁö¼ö

Æ÷Åä / ¿µ»ó