½Ã³ëÆ彺 ÀÌÇϳª ÆÀÀå |
½Ã³ëÆ彺 °ü°èÀÚ´Â "¼öÀÔ¿¡ ÀÇÁ¸ÇØ¿À´ø ¹ÝµµÃ¼ CMP(Chemical Mechanical Polishing)°øÁ¤ÀÇ ÇÊÅÍ ±¹»êÈ¿¡ ¼º°øÇÏ°í °ü·ÃµÈ ´Ù¾çÇÑ ÇÊÅÍ Á¦Ç°µéÀ» °ø±ÞÇØ ±¹³» ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ ¹ßÀü¿¡ ±â¿©ÇÑ °ø·Î¸¦ ÀÎÁ¤ ¹Þ¾Ò´Ù"°í ¸»Çß´Ù.
½Ã³ëÆ彺´Â 2010³â ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷¿ë POU(POU)ÇÊÅÍ °³¹ß·Î ±¹»êÈ¿¡ ¼º°øÇÑ ÀÌÈÄ, ±¹³» ¹× ´ë ¸¸ µîÀÇ ¹ÝµµÃ¼°øÁ¤¿¡ ÇÊÅ͵éÀ» °ø±ÞÇϱ⠽ÃÀÛÇß´Ù. 2014³âºÎÅÍ´Â »ï¼ºÀüÀÚÀÇ ¹ÝµµÃ¼»ç¾÷ºÎ ÇÊÅÍ 1Â÷ Çù·Â»ç·Î µî·ÏÇß´Ù. POUÇÊÅÍ´Â ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶°øÁ¤ Áß¿¡¼ ¿þÀÌÆÛ ¿¬¸¶¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ½½·¯¸® ¿ë¾×À» ÃÖÁ¾ ¿©°úÇϴµ¥ »ç¿ëµÇ´Â ÇÊÅÍ´Ù.
¼ö»óÀÚÀÎ ÀÌÇϳª ÆÀÀåÀº ¼öÀÔ»êÀÌ ÁÖ¸¦ ÀÌ·ç´ø CMP¿ë POU ÇÊÅÍ¿¡¼ºÎÅÍ ¿©·¯ Á¾·ùÀÇ CMP¿ë Ä«Æ®¸®Áö(Cartridge) ÇÊÅÍ °³¹ß¿¡ Âü¿©Çß´Ù. 2002³âºÎÅÍ ½Ã³ëÆ彺ÀÇ Àü½ÅÀÎ À¯¿øÅÚ·¹ÄÞ¿¡ ÀÔ»çÇØ 19³â° ÀçÁ÷ ÁßÀ̸ç, »ý»êÇöÀå °æÇèÀ» Åä´ë·Î ¸âºê·¹ÀÎÇÊÅÍ ¹× ITºÎÇ° »ç¾÷ºÎÀÇ »ý»ê°ú ¿µ¾÷ ÇöÀå µîÀ» ¸Ã°í ÀÖ´Ù.