반도체 핵심기술 중국에 넘긴 일당 잡았다

머니투데이

대전=허재구 기자

우리나라의 반도체 핵심기술을 해외로 유출한 일당이 붙잡혔다.

/사진제공=뉴스1

특허청 기술디자인특별사법경찰과 대전지방검찰청은 국가핵심기술인 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출한 국내 대기업·중견기업 전 직원 3명을 구속하는 등 모두 6명을 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법(영업비밀 국외누설 등) 위반혐의로 기소했다고 26일 밝혔다.

A사 전 직원이자 주범인 ㄱ씨(55, 구속)와 B·C사의 연구원 ㄴ씨(52, 구속), ㄷ씨(42, 구속), ㄹ씨(35, 불구속) 등은 컴퓨터 또는 업무용 휴대전화로 자신들이 근무하는 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사의 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 사진촬영하는 수법 등으로 이를 중국 업체로 유출한 혐의를 받는다.

피해를 당한 회사들은 시가총핵 합계가 66조원 상당에 이르는 코스피 또는 코스닥 상장사들이다.

이들이 유출한 혐의를 받는 자료에는 A·B사의 반도체 웨이퍼 연마제 및 연마패드 관련 첨단기술이자 영업비밀은 물론 C사의 반도체 웨이퍼 연마공정 관련 국가핵심기술이자 영업비밀까지 포함된 것으로 파악됐다.

특허청 기술경찰과 검찰은 A사 재직자가 중국 내 반도체 소재 업체와 'CMP 슬러리 사업' 동업을 약정한 뒤 B·C사의 연구원들을 포섭해 중국으로 이직시키고 그 과정에서 A·B·C사의 CMP 공정·슬러리·패드 관련 기술이 유출된 혐의를 잡고 지난해 3월부터 수사에 착수했다.

이 과정에서 반도체 웨이퍼 연마기술 무단유출 및 사용 증거 등을 다량 확보했고 디지털포렌식 증거 분석을 통해 연구원들의 이직을 주도한 추가 공범 4명이 있는 사실 및 A사 및 C사의 영업비밀까지 유출된 정황을 발견해 추가 입건했다.

김시형 특허청 산업재산보호협력국장은 "이번 사건은 기술경찰이 최초로 구속영장을 신청해 주범 3명을 구속한 뒤 검찰에 송치한 사건인 점에 의미가 있다" 며 "특히 피해 기업 3사 중 규모가 가장 작은 B사의 경우만 하더라도 기술유출로 연구개발비 등 1000억원 이상의 경제적 피해가 발생했지만 ㄱ씨 등이 유출한 자료로 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전 구속해 추가적인 경제적 피해를 차단 할 수 있었다"고 말했다.

특허청 기술경찰은 국가 핵심기술의 해외유출을 막고 특허권·영업비밀·디자인권 침해·유출 범죄 수사를 위해 지난 2019년 3월 설립됐다. 지난 2021년 7월 기술범죄수사 전담조직인 '기술경찰과'로 확대·개편한 이후 양·질적 성장을 거듭하고 있다.

올해 상반기 기술범죄수사지원센터를 신설해 최첨단 수사 장비를 갖추고 기술범죄수사에 특화된 과학수사 기능을 강화하기 위한 물적 토대를 더욱 공고히 할 예정이다.