EUV /»çÁø=ASML ȨÆäÀÌÁö °¥¹«¸® |
¿©±â¼ EUV´Â ¹ÝµµÃ¼¸¦ ¸¸µå´Â µ¥ ÀÖ¾î Áß¿äÇÑ °úÁ¤ÀÎ Æ÷Åä °øÁ¤¿¡¼ ±ØÀڿܼ± ÆÄÀåÀÇ ±¤¿øÀ» »ç¿ëÇÏ´Â ¸®¼Ò±×·¡ÇÇ ±â¼ú ¶Ç´Â À̸¦ È°¿ëÇÑ Á¦Á¶°øÁ¤ÀÔ´Ï´Ù.
¹ÝµµÃ¼ ĨÀ» »ý»êÇÒ ¶§ ¿þÀÌÆÛ(¹ÝµµÃ¼ ¿øÀç·á)¶ó´Â ½Ç¸®ÄÜ ±â¹ÝÀÇ ¿øÆÇ, Áï µÕ±Ù µð½ºÅ©¿¡ ·¹ÀÌÀú ±¤¿øÀ» Åõ»çÇØ È¸·Î ÆÐÅÏÀ» »õ±â´Âµ¥¿ä. À̶§ EUV °øÁ¤ÀÌ µé¾î°©´Ï´Ù.
ÀÌ °øÁ¤Àº ¹ÝµµÃ¼ Ĩ Á¦Á¶¿¡¼± ÇʼöÀä. Æ®·£Áö½ºÅÍ¿Í Äܵ§¼ µî ¼ÒÀÚµéÀ» Áö¸§ 300§®ÀÇ Á¦ÇÑµÈ ¿þÀÌÆÛ °ø°£¿¡ ´õ ¸¹ÀÌ ÁýÀûÇÏ°í, ¼º´É°ú Àü·ÂÈ¿À² ¶ÇÇÑ ³ôÀÏ ¼ö Àֱ⠶§¹®ÀÔ´Ï´Ù.
ÇÏÀÌ NA EUV¸¦ »ç¿ëÇÏ°Ô µÇ¸é ±âÁ¸ ³ë±¤ Àåºñº¸´Ù ¾à 1.7¹è ÀÛÀº Æ®·£Áö½ºÅÍ Àμ⸦ ºñ·ÔÇØ ÁýÀûµµ°¡ 2.9¹è Çâ»óµÈ´Ù°í ÇÕ´Ï´Ù. °á°úÀûÀ¸·Î ´õ °í¼º´ÉÀÇ ¹ÝµµÃ¼¸¦ »ý»êÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô µÇ´Â °ÍÀÔ´Ï´Ù.
ASMLÀº À߾˷ÁÁ®ÀÖ´Ù½ÃÇÇ Àü ¼¼°è¿¡¼ À¯ÀÏÇÏ°Ô EUV ³ë±¤Àåºñ¸¦ »ý»êÇÏ´Â ±â¾÷Àä.ÃÖ÷´Ü Á¦Ç°ÀÎ ÇÏÀÌ NA EUVÀÇ ´ë´ç°¡°ÝÀº ¾à 4000¾ï~5000¾ï¿ø ¼öÁØÀ¸·Î »ý»ê·®Àº ¿¬°£ 10´ë¿¡ ºÒ°úÇÑ °ÍÀ¸·Î ¾Ë·ÁÁ³½À´Ï´Ù.
ÀÌ ¶§¹®¿¡ 2nm °øÁ¤ ¼±Á¡ °æÀïÀ» ¹ú¿©¿Â Çѱ¹ »ï¼ºÀüÀÚ, ´ë¸¸ TSMC, ¹Ì±¹ ÀÎÅÚ µî ±Û·Î¹ú ¹ÝµµÃ¼±â¾÷µéÀº ÇÏÀÌ NA EUV È®º¸ÀüÀ» ÆîÃÄ¿Ô½À´Ï´Ù. ÀÎÅÚÀÌ Áö³ÇØ 12¿ù ASML·ÎºÎÅÍ Ã³À½ ÇÏÀÌ NA EUV¸¦ ³³Ç° ¹ÞÀ¸¸é¼ ¸ÕÀú ¿ô¾ú½À´Ï´Ù. ÀÎÅÚÀº ³»³âºÎÅÍ À̸¦ È°¿ëÇØ º»°ÝÀûÀÎ ¹ÝµµÃ¼ »ý»ê¿¡ ³ª¼³ °èȹÀ̶ó°í ÇÕ´Ï´Ù. »ï¼ºÀüÀÚ´Â ¿À´Â 2027³â ÇÏÀÌ NA EUV¸¦ È®º¸ÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹»óµË´Ï´Ù.