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에이피티씨 "연내 미국지사 설립…美반도체 영업 확대"

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  • 박계현 기자
  • 2019.08.18 17:06
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최우형 대표 "1z D램 공정용 식각장비 개발 막바지…CVD 개발 나설것"

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경기도 이천에 위치한 에이피티씨 생산 공장에서 직원들이 폴리 식각장비 성능을 모니터링하고 있다./사진=박계현기자 unmblue@
"연내 미국 실리콘밸리에 현지법인을 설립하고 마이크론·인텔 등 북미 반도체 제조사를 상대로 영업력을 강화할 계획입니다"

최우형 에이피티씨 (6,450원 상승10 -0.1%)(APTC) 대표는 최근 머니투데이와 만나 "현지 전문가를 영입해 영업·R&D(연구개발)을 전담할 계획"이라며 "이익잉여금 중 일부인 200억원을 투입해 최고 수준의 인력을 확보할 계획"이라고 말했다.

에이피티씨는 지난해 8월 코스닥에 상장한 반도체용 폴리 식각장비 제조사다. 지난 2016년부터 양산을 시작한 폴리 식각장비 '레오(Leo) NK 1-C'는 이미 지난 2년간 SK하이닉스에 연간 10대씩 납품돼 현재 M10, M12, M14라인 등에서 사용 중이다.

에이피티씨는 올해도 SK하이닉스에 같은 기기를 10대 안팎 공급할 계획이다. 회사는 지난 반기 말 기준 매출액으로 전년 대비 16.2% 감소한 343억원, 영업이익으로 38.6% 감소한 90억원을 기록했다. 당기순이익은 37% 감소한 78억원을 기록했다.

최 대표는 "예년과 달리 지난해 1분기에 수주가 집중된 측면이 있다"며 "연간 수주실적은 지난해와 비슷한 수준을 유지할 것"이라고 설명했다.

회사는 내년 초 데모장비 공급을 목표로 10나노(1z)대 초반 D램 공정에 투입 가능한 신규 기기 '레오(Leo) WH'를 개발하고 있다. 회사 측은 신규 장비가 실제 공정에 투입 가능한 시기는 테스트를 거친 뒤인 2021년 이후가 될 것으로 보고 있다.

최 대표는 "수율 향상을 위해 반도체 웨이퍼 고정장치인 정전척(ESC, electrostatic chuck)을 기존 장비의 4존에서 18존으로 세밀화했다"며 "자체 테스트 결과 수율 측면에선 경쟁사인 램리서치와 거의 동일한 수준의 성능을 내는 기기"라고 설명했다.

국내 반도체 제조사인 SK하이닉스·삼성전자에 공급되는 식각장비는 미국 어플라이드머티리얼즈, 램리서치, 일본 도쿄일렉트론 3개사가 사실상 95% 이상 점유율을 차지하고 있다. 반도체 부문에서 국내 식각장비 국산화는 아직 '걸음마' 단계로 삼성전자에는 삼성전자 자회사인 세메스, SK하이닉스에는 에이피티씨가 공급하고 있다.

가트너에 따르면 지난해 세계 식각장비(드라이에처) 시장 규모는 6조7607억원으로 추산된다. 이중 국산 장비 점유율은 5% 안팎에 불과하다.

에이피티씨는 내년 테스트 장비 개발을 목표로 개발을 중단했던 옥사이드 식각 장비와 신규 진출 부문인 CVD(화학기상증착장비) 장비 개발에도 도전할 계획이다.

최 대표는 "SK하이닉스의 1Z D램 공정에 투입 가능한 에처 장비 기술을 갖췄기 때문에 에처에 비해 상대적으로 기술 진입 장벽이 낮은 CVD 개발기간을 단축할 수 있을 것으로 보고 있다"며 "현장에서 입증된 기술력을 바탕으로 식각·증착 장비 국산화에 앞장설 계획"이라고 말했다.



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