기술탈취 분쟁 해결 더 빨라진다...특허청, 기술탈취 방지대책 발표

이인실 특허청장이 28일, ‘기술탈취 방지대책’을 브리핑하고 있다./사진제공=특허청

앞으로 특허청 행정조사, 산업재산권 분쟁조정, 기술경찰 수사를 원스톱으로 이용해 기술탈취 피해를 신속하게 구제받을 수 있게 된다. 기술탈취에 대한 특허청의 행정조사에서 바로 시정명령을 내리거나 미 이행시 과태료를 부과하는 일도 가능해지고, 손쉬운 피해입증을 위한 아이디어 원본증명 제도도 도입된다.

특허청은 28일 원스톱 분쟁 해결 체계 구축, 솜방망이 처벌 문제 해결, 보호 사각지대 해소 등을 주요 내용으로 하는 '기술탈취 방지대책'을 발표했다. 기업 간 거래·교섭 과정에서 제공된 아이디어의 탈취 문제, 내부 직원 또는 경쟁사에 의한 기술유출 등 기술분쟁 상황에서 쉽게 도움을 받을 수 있는 종합적인 해결 방안을 제공하기 위한 것이다.


먼저 기술탈취 분쟁 시 신속한 피해구제를 위한 원스톱 해결체계를 구축한다. 이를 위해 특허청의 행정조사, 분쟁조정, 기술경찰 수사 간의 연계 및 기능을 강화한다. 원스톱 분쟁 해결체계 구축을 위한 '산업재산 분쟁 해결 종합지원센터'를 설치해 분쟁조정, 행정조사, 기술경찰 수사를 종합적으로 관리·지원한다. 중장기적으로는 '산업재산 분쟁조정법'(가칭)을 제정해 '산업재산 분쟁조정원'을 설립하는 방안까지 검토키로 했다.

현재 아이디어 탈취에 대한 행정조사시 시정 권고 및 미이행 시 공표만 가능해 강제력이 없는 문제를 해결하고자 불이행 시 과태료 부과 제도가 새롭게 도입된다.

기술분야별 전문조사관 체계를 구축하고 아이디어 탈취 사건을 우선 처리하는 신속 조사 체계도 마련한다. 현재 11개월이 걸리는 아이디어 탈취의 행정조사 기간도 6개월로 대폭 단축한다. 피해기업이 증거 불충분 등으로 패소하는 일을 최소화하기 위해 행정조사 및 분쟁조정 자료가 법원의 소송증거로 적극 활용될 수 있도록 기록 송부 요청제도도 개선한다.


영업비밀 유출 범죄에 대한 엄중한 처벌을 위해 대검찰청·사법부와 함께 내년 4월까지 법원의 양형기준 개정을 추진한다. 지난해 선고된 영업비밀 해외 유출 범죄의 형량은 평균 14.9개월로 최대 징역 15년인 법정형에 비해 낮았고 75.3%가 집행유예를 받는 등 솜방망이 처벌이라는 비판이 있었다.

또 피해기업이 손해를 제대로 배상받기 위해서는 침해 입증과 손해액 산정에 필요한 증거 수집이 가장 중요한 만큼 보다 쉽게 증거를 수집할 수 있도록 법관이 지정한 전문가가 침해 현장에서 직접 자료를 조사하는 등의 '한국형 증거 수집 제도' 도입도 추진한다.

법인의 조직적인 영업비밀 유출행위에 대한 벌금형을 자연인의 3배까지 강화하고 2차 피해 차단을 위해 제조설비를 몰수하는 제도 개선에도 나선다.

사업 제안, 거래 교섭, 협상 과정에서의 아이디어 탈취상황을 개선하기 위해 아이디어의 구체적 내용과 거래 교섭 시 교환한 자료까지 전자문서로 등록해 피해 발생 시 가장 확실한 증거로 사용할 수 있도록 아이디어 원본 증명제도를 도입한다.

아이디어 거래 교섭 등 본 계약 체결 전에도 비밀유지계약(NDA)을 체결토록 의무화하는 방안도 검토한다. 현재 수·위탁 단계 등 본 계약 체결 후에만 NDA 체결 의무 조항이 있어 협상 과정에서 먼저 NDA 체결을 요청하기 어렵다는 현실을 반영한 것이다.

이인실 특허청장은 "앞으로도 특허청은 1400여명의 특허심사·심판관 등의 기술전문성을 바탕으로 기술심판 역할을 지속 강화해 기술탈취 분쟁이 신속하고 공정하게 해결되도록 최선을 다할 것"이라고 말했다.