한·일·중 3국 및 양자 간 상표전문가회의 28~29일 서울서 개최

머니투데이

허재구 기자

/사진=뉴스1

특허청은 일본, 중국 특허청과 오는 28일 한국프레스센터(서울시 중구)에서 각국의 상표전문가들이 참석한 가운데 '한·일·중 상표전문가회의' 및 '유저 심포지엄'을 개최한다고 26일 밝혔다. 29일에는 한국지식재산센터(서울시 강남구)에서 한·일, 한·중 양자 간 상표전문가 회의도 진행한다.

'한·일·중 상표전문가회의'는 실무자급 전문가들이 모여 각국의 상표 제도 및 이와 관련된 쟁점들을 논의하는 자리다. 2019년부터 매년 국가별로 돌아가면서 개최하고 있다.

이번 회의에서는 3국의 상표 출원·등록 및 심사처리 현황과 더불어 개정된 상표법 내용과 운영현황 등에 대한 정보를 공유하고 의견을 교환할 예정이다.

개인 및 기업 출원인, 대리인을 위한 '유저 심포지엄'도 열린다. 3국 특허청 관계자가 각국의 심사처리 현황과 개정된 심사기준 등에 대해 발표하고, 참여자들과 질의응답을 진행한다.

심포지엄을 통해 상표분야에서 국제적인 관심사로 논의되고 있는 국제적으로 유명한 상표의 보호 제도 논의와 이에 대한 심판·소송 사례 등을 공유할 예정이다.

29일에는 한·일, 한·중 양자 간 상표전문가 회의가 개최된다. 양자회의에서는 상표심사에 대한 AI시스템 도입, 올해부터 우리나라와 일본에서 시행되고 있는 상표공존동의제의 이용 현황 및 세부 지침, 최근 자국 내에서 이슈가 됐던 상표 쟁점들에 대해 논의할 예정이다.

남영택 상표심사정책과장은 "이번 한·일·중 상표전문가회의와 유저 심포지엄은 각국 실무자들과 상표에 관심이 있는 사용자들이 모여 상표 제도의 발전과 보호를 위한 논의를 진행하는 기회가 될 것"이라며 "이를 통해 3국 간 상표 제도 협력이 더욱 강화될 것으로 기대한다"고 말했다.