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에스앤에스텍 포토마스크 특허 취득

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  • 박준식 기자
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  • 2013.10.28 14:36
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에스앤에스텍 차트
에스앤에스텍 (40,700원 상승1000 -2.4%)은 포토마스크 블랭크와 바이너리 포토마스크 및 위상반전에 관한 특허를 취득했다고 28일 공시했다. 회사는 해당 특허가 "하나의 포토마스크 블랭크 구조에서 하드 마스크막이 적용된 바이너리 포토마스크 및 위상반전 포토마스크를 동시에 구현할 수 있는 것"이라고 설명했다.



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