삼성전자는 이날 이사회를 열고 중국 서안시 고신기술산업 개발구에 들어설 반도체 신규라인 건설을 위해 자본금 23억달러를 출자하기로 결정했다.
삼성전자는 중국 반도체 라인 건설에 초기 투자비용으로 23억달러를 투자하고 향후 수년간 단계적으로 총 70억달러를 투자할 계획이다.
이번 중국 투자는 삼성전자의 해외 반도체 생산라인 단일 투자 규모로는 역대 최대 규모다.
삼성전자가 중국 서안시를 최종 낙점한 것은 주변에 주요 고객사와 글로벌 IT기업의 생산, 연구 거점이 밀집돼 있어서다. 고객의 요청에 신속하고 효율적인 대응이 가능한데다 우수인재 유치에도 유리하다는 점이 가장 큰 요인으로 작용했다.
또 서안시는 중국 정부가 야심차게 추진 중인 서부 대개발 정책의 전략적 요충지로 특히 전기, 용수 등 산업 인프라도 잘 갖춰져 있다.
삼성전자는 중국 측과 생산과 고용 규모 등 세부 협상을 빠른 시일 내에 마무리 짓고 연내에 반도체 생산라인 건설에 착수, 2013년말부터 10나노급 낸드 플래시를 본격 생산할 예정이다.
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